泛半导体系列

叠层机

面向MLCC卷对卷膜片的全自动图像定位、裁切、剥离、纠偏、叠层与压合设备。

叠层机

设备概述

面向MLCC卷对卷膜片的全自动图像定位、裁切、剥离、纠偏、叠层与压合设备。

关键工艺参数

基材厚度
1.6~30μm
张力范围
±1N
压力范围
MAX 150T
叠层精度
≤±10μm

设备能力与适用范围

  • 支持印刷片、空白片及上下盖片按配方自由叠层。
  • 图像定位结合切割、剥离和位置校正。
  • 最大叠层数1000层,支持自动压合。

公开技术参数

以下内容来自官网公开设备配置。项目参数需结合材料与验证结果确认。

型号参数

设备外形尺寸
4350×1600×2450mm

设备参数

基材厚度
1.6~30μm
张力范围
±1N
烘箱最高温度
<80°C
压力范围
MAX 150T
叠层精度
≤±10μm

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