泛半导体系列

辊印机

用于MLCC流延后印刷工位的高速精密凹版印刷设备。

辊印机

设备概述

用于MLCC流延后印刷工位的高速精密凹版印刷设备。

关键工艺参数

涂布方式
凹版印刷
涂布速度
MAX 150m/min;常用50~100m/min
基材厚度
25~38μm
膜厚范围
干膜0.7~2μm

设备能力与适用范围

  • 相较传统丝网印刷,凹版辊印速度快、效率高。
  • 面向精密量产型MLCC产品。
  • 支持Ni浆料及低于1000cps的工艺条件。

公开技术参数

以下内容来自官网公开设备配置。项目参数需结合材料与验证结果确认。

型号参数

设备外形尺寸
20300×2935×2700mm

涂布产品参数

涂布方式
凹版印刷
涂布速度
MAX 150m/min;常用50~100m/min

设备参数

基材厚度
25~38μm
烘箱最高温度
150°C
膜厚范围
干膜0.7~2μm
放卷直径
MAX φ530mm

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